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ASML, azienda olandese produttrice di sistemi litografici  per l’industria dei semiconduttori, dopo aver consigliato, o costretto?, Intel, Samsung e TSMC  ad acquistare parte delle proprie azioni, ufficialmente per supportare il reparto di Ricerca e Sviluppo, sta cominciando ad utilizzare quanto incassato per allargare il proprio business.

 

 

E’ notizia recente, come riporta EETimes, che ASML abbia assorbito Cymer Inc., azienda di San Diego specializzata nella produzione dei laser utilizzati nelle FAB per la produzione di chip.

Grazie a questa acquisizione ASML spera di poter rendere disponibili con maggiore celerità le tecnologie produttive necessarie per la realizzazione di chip a 10 nm o meno, soprattutto grazie alla maggiore efficacia nell’implementazione della litografia EUV (Extreme Ultraviolet):

Extreme Ultraviolet (EUV lithography represents a major technological advancement for semiconductor manufacturing. Current lithographic techniques utilize deep ultraviolet (DUV) light sources that produce wavelengths of 248 nm or 193 nm. The extreme ultraviolet light used in EUV lithography has a wavelength of 13.5 nm, a full order of magnitude shorter. This is important because the imaging capabilities - or resolution - of a lithography system are proportional to (and limited by) the wavelength of light used.

Cymer, attraverso la collaborazione con il reparto di R&D di ASML, confida di rendere disponibile entro la fine del prossimo anno un’evoluzione dell’EUV in grado di poter lavorare a 14nm, come previsto dalla roadmap dall’azienda olandese.


Pubblicato in: News, Hardware
Tags: asml , cymer , laser , litografia

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Gian Maria Forni
Autore: Gian Maria Forni
Esperto in:
Esperto di mercati e CPU
Sebbene sia laureato in Lettere e Filosofia, indirizzo Storia Contemporanea, e scriva per quotidiani e riviste di tale settore, ha sempre avuto la passione per l'informatica ed ha collaborato quale moderatore in importanti forum del settore
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